9月8日，阿斯麥盤中上漲3.67%，報1774.155美元/股，成交額3.43億美元。

消息面上，台積電與三星電子正式確認將採用阿斯麥單台售價高達4億美元的高數值孔徑極紫外光刻設備（High NA EUV）。其中三星計劃於2028年將該設備投入高產量DRAM生產，台積電則計劃從2030年起基於現有6英寸光罩的High NA系統進行量產。至此，三星、台積電與英特爾三大芯片巨頭均已成為阿斯麥High NA EUV設備客戶。阿斯麥同時表示2027年EUV設備整體產能將提升約30%。此外，阿斯麥當日宣佈在荷蘭啓動新生產園區建設，遠期可容納兩萬名員工，首期預計2029年完工，旨在提升巨型光刻機的製造與組裝效率。

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