ASML周二表示，英特爾（Intel，INTC）已決定採用ASML的新一代高端光刻設備，生產部分旗艦級Panther Lake（黑豹湖）筆記本處理器。這一舉措將幫助英特爾更有效地掌握該設備的生產應用技術。

ASML表示，在自2024年開始進行相關試驗後，英特爾現已開始使用ASML新一代高數值孔徑（High NA）極紫外（EUV）光刻機，為部分Panther Lake處理器製造芯片電路圖案。

長期以來，半導體行業一直在討論，究竟何時開始部署High NA光刻設備才具有經濟效益。隨着芯片製造商不斷縮小構成芯片的原子級電路線寬，未來High NA設備預計將成為先進製程不可或缺的關鍵工具。

每台High NA光刻機售價約4億美元，約為標準EUV光刻機價格的兩倍。此外，這種設備導入量產流程也面臨較高的技術挑戰。

ASML表示，英特爾目前僅將High NA光刻機應用於芯片製造中的部分特定工藝層，此舉將有助於英特爾與ASML收集更多生產數據，並進一步優化設備性能。

目前，英特爾採用18A製程工藝生產Panther Lake處理器，並已使用ASML現有的標準EUV光刻機進行製造。光刻（Lithography）是利用光線在晶圓上繪製複雜電路圖案、形成芯片電路的關鍵製造工藝。

英特爾於2024年在美國俄勒岡州希爾斯伯勒（Hillsboro）的研發基地接收了首台High NA光刻機。該基地主要負責開發公司的新一代芯片製造工藝和先進製造技術。

英特爾夜盤現升 2%。