異動解讀 | 中國自研DUV光刻機消息衝擊,阿斯麥盤中大跌5.02%

異動解讀
07/27

阿斯麥(ASML)今日盤中大跌5.02%,引發市場廣泛關注。

消息面上,據《The Information》周一報導,中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外光刻機(DUV),這種關鍵的芯片製造設備長期以來一直由阿斯麥主導。報導援引知情人士的話稱,這些設備預計將於今年交付給中國領先的芯片製造商,包括中芯國際、華虹半導體和長信存儲科技。

該報導發布後,阿斯麥股價隨即跳水,盤中跌幅一度擴大至6%。儘管報導指出,初期產量將受到限制,今年約有5台DUV光刻機,2027年將增至約20台,且該設備在性能和可靠性方面與阿斯麥產品仍存在差距,但這一突破意味着中國芯片製造商在關鍵設備上獲得了替代來源,可能對阿斯麥在中國市場的長期主導地位構成挑戰。

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