阿斯麥（ASML）美股盤前升逾2%，公司新一代EUV光刻機獲得台積電和三星的使用承諾。

三星和台積電（TSMC）這兩家全球最大的芯片製造商，已經承諾採用ASML 的 High NA 極紫外（EUV）光刻機。隨着市場對更先進芯片的需求不斷增長，這項技術的重要性也日益提升。

ASML 的 EUV 光刻機是芯片製造過程中至關重要的設備，用於將電路圖案印刷到硅晶圓上。High NA 光刻機能夠印刷尺寸更小、結構更加複雜精細的電路圖案。這類設備的單台價格約為4億美元。

作為全球最大的存儲芯片製造商之一，三星表示，將從2028年開始使用 ASML 的 High NA EUV 光刻機生產 DRAM。DRAM 是一種關鍵的存儲器類型。

三星表示，將在2030年採用這項技術，並稱該技術將幫助其「延長 DRAM 的製程微縮路線圖（scaling roadmap）」，同時提高生產工藝的效率。