TradingKey - 全球半導體設備巨頭阿斯麥（ASML）將於2026年7月15日美股盤前發布2026年第二季度財報。

作為全球唯一掌握極紫外（EUV）光刻技術的廠商，阿斯麥的業績表現不僅關乎自身股價走勢，更是全球AI基建投資強度的重要風向標。

近期，市場對AI資本支出可持續性的擔憂有所升溫，阿斯麥美股股價自7月以來累計下跌超11%，本次財報能否釋放積極信號，將成為決定股價走勢的關鍵。

摩根大通在財報前給予阿斯麥"增持"評級，目標價2200美元。該行認為，儘管2026年受供應鏈限制無法充分釋放產能，但2027年阿斯麥的增長有望明顯超越行業平均水平。

市場當前的擔憂更多集中在短期增長的可持續性，而阿斯麥的技術壟斷地位和AI時代的設備剛需屬性，使其長期價值依然顯著。

增長預期考驗

此前，阿斯麥已在一季度上調全年業績指引並強調客戶需求持續超過供應能力，當前市場的核心關注點已不再是單季營收是否達標，而是能否將旺盛需求轉化為實際設備交付，同時維持利潤率穩定，並應對潛在的中國業務限制。

摩根大通在最新研報中指出，阿斯麥需要明確釋放2027年及以後產能擴張與需求強勁的信號，股價纔有望實現突破。

該行認為，2027年阿斯麥的增長有望明顯高於全球晶圓廠設備（WFE）市場整體增速，但2026年受限於供應鏈產能，無法充分交付訂單。

據雅虎財經匯總的分析師預期，阿斯麥二季度營收指引為84億-90億歐元，毛利率51%-52%，市場普遍關注管理層是否會再度上調全年業績展望。

若公司第三季度營收指引達到或超出市場預期的103.4億歐元，同時確認下游擴產需求延續，將成為股價上漲的直接催化劑。反之，若營收達標但新增訂單疲軟，可能會削弱市場對未來收入的信心，引發投資者對AI需求能否支撐當前估值的重新評估。

EUV技術壟斷下，能否驗證AI景氣？

阿斯麥憑藉全球唯一的EUV光刻技術壟斷地位，成為半導體產業鏈中無可替代的關鍵節點。EUV設備採用反射鏡系統替代傳統透鏡，能夠實現納米級精度刻蝕，是7納米以下先進製程芯片量產的必備條件。

目前，全球主流晶圓代工廠、存儲芯片廠商及集成器件製造商（IDM）均依賴阿斯麥的EUV設備，生產用於AI數據中心、智能手機、個人電腦等場景的高端芯片。SK海力士、美光等存儲廠商也通過EUV技術打造更高性能、更低功耗的存儲產品。

阿斯麥預計2026年交付約60台Low NA EUV系統，較去年增加約25%。儘管需求強勁，但產量取決於供應商能否提供足夠的光學元件、光源和精密部件。投資者需密切關注供應延遲跡象——若阿斯麥無法快速提升產能，即使客戶訂單充足，部分收入也可能推遲至後續季度確認，影響短期業績表現。

今年一季度，阿斯麥交出穩健成績單，營收87.6億歐元（約合100億美元），按年增長13%；淨利潤28.4億歐元，按年增長5.4%。基於AI基建投資帶動的行業高景氣，阿斯麥已在一季報中第二次上調全年業績指引，將2026年淨銷售額預期從年初的340億-390億歐元提升至360億-400億歐元。

對華限制會成為更大的問題嗎？

中國市場預計貢獻阿斯麥2026年約20%的銷售額，主要風險並非已受限的EUV設備，而是對先進深紫外（DUV）系統、備件和服務實施更嚴格管控。

阿斯麥在一季度財報中已將出口管制因素納入全年業績指引的考量範圍， 投資者需要重點關注多個方面的動向，包括中國市場銷售佔比是否會繼續回落、DUV設備的出口許可審批是否會對新訂單產生影響以及售後服務和現場選項銷售是否會受到波及、台灣、韓國、美國等其他地區的客戶是否能夠吸收潛在的需求缺口。

荷蘭貿易部長近期訪華的相關報道顯示，阿斯麥對華銷售限制問題是中荷兩國經貿對話中的重要議題之一，荷蘭方面表示對阿斯麥設備實施出口管制的目標是確保敏感技術不會被用於可能危及安全的場景。

對投資者而言，這意味着阿斯麥面臨的風險不僅來自半導體行業的需求周期波動，還涉及國際政策協調和出口許可審批的不確定性。

不同業務板塊面臨的風險層級也存在差異，EUV設備的銷售空間早已受到長期限制，DUV設備的市場覆蓋範圍相對更廣，但新的管制措施可能會改變其出貨規則和服務邊界，而服務收入通常具有較高的穩定性，不過如果政策管制範圍延伸至服務領域，也會對未來收益的可預見性產生影響。

原文鏈接