路透舊金山7月14日 - 光刻機製造商ASML(阿斯麥/艾司摩爾)周二表示，英特爾 INTC.O已決定使用ASML的高端設備來生產其部分旗艦級Panther Lake筆記本電腦芯片，此舉將有助於英特爾更有效地積累該設備的應用經驗。

ASML表示，英特爾從2024年開始進行試驗，並已開始使用ASML的下一代高數值孔徑（High NA）極紫外（EUV）光刻機。該光刻機可將電路圖案轉印到晶圓上，以幫助生產其部分Panther Lake處理器。

高數值孔徑光刻設備造價約為4億美元，是標準EUV光刻機的兩倍。此外，將該設備應用於生產流程在技術上也極具挑戰性。

英特爾正在使用高數值孔徑設備對芯片的特定層進行測試，這將有助於英特爾和ASML收集數據並優化設備。

英特爾對該聲明不予置評。

該公司採用其18A製造工藝生產Panther Lake芯片，並已在使用ASML的標準EUV光刻機進行生產。