路透7月27日 - 據The Information周一報道，中國已開始生產自主研發的浸沒式深紫外（DUV）光刻機，這種關鍵芯片製造設備長期以來一直由荷蘭供應商ASMLASML.AS主導。

報道援引知情人士的話稱，這些設備預計將於今年交付給中國領先的芯片製造商，包括中芯國際0981.HK、華虹半導體688347.SS和長鑫存儲。

報道發布後，ASML股價下跌4.6%。

報道中的關鍵細節：

• 鑑於此事敏感，知情人士未透露這家國有背景製造商的名稱。

• 這一突破最終可能挑戰ASML在中國市場的主導地位，但該系統在性能和可靠性方面仍存在差距，在實現量產前還需要進一步測試，因此目前這家荷蘭公司的優勢依然穩固。

• 初期產量將受到限制，今年約生產5台DUV光刻機，2027年則增至約20台。

• 浸沒式DUV光刻機用於將電路圖案刻印在硅片上，在限制措施切斷中國芯片製造商獲取極紫外光刻（EUV）系統渠道後，這是中國芯片製造商目前可獲得的最先進光刻設備。

• 中國也在研發國產EUV光刻機，不過目前仍處於原型機階段。

• 鑑於美國正考慮進一步收緊外國光刻設備對華出口及相關維修服務限制，這項技術或可為中國芯片製造商提供關鍵設備的替代供應來源。