全球半導體產業重要供應商德國蔡司(Zeiss)高管稱，中國在尖端芯片製造設備的研發方面落後約15年，並指中國的進步很難量化。 蔡司半導體部門負責人Frank Rohmund在彭博電視台表示，中國需要15年才能研發出EUV(極紫外光)光刻機是「合理的假設」。他稱，中國數十年來一直在研發這類技術。談到近期有關中國取得技術進展的報道時，他說，這其實並不令人意外，現在需要觀察的是，這些設備的實際能力究竟如何。Frank Rohmund稱，「我們仍然遙遙領先。」蔡司是EUV設備所使用光學系統的獨家供應商。 在Frank Rohmund作出上述估計之前，瑞銀分析師指出，中國距離開發出國產EUV技術可能至少還有10年。 7月底，The Information稱，中國廠商開始生產浸沒式深紫外(DUV)光刻機。